恭喜ASM IP私人控股有限公司奥雷利.黑田获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网恭喜ASM IP私人控股有限公司申请的专利沉积氮化硅层的方法、该方法形成的结构以及执行系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113136561B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110034059.2，技术领域涉及：C23C16/34；该发明授权沉积氮化硅层的方法、该方法形成的结构以及执行系统是由奥雷利.黑田;张令子;德永正树;黄凌志;五十岚诚设计研发完成，并于2021-01-12向国家知识产权局提交的专利申请。
本沉积氮化硅层的方法、该方法形成的结构以及执行系统在说明书摘要公布了：公开了用于在表面上沉积氮化硅之前预处理所述表面的方法和系统。示例性方法包含通过将所述表面暴露于由包括氮和氢的一种或多种气体形成的活性物种来预处理所述表面。预处理的步骤可另外包含将所述表面暴露于包括硅的气体的步骤。
本发明授权沉积氮化硅层的方法、该方法形成的结构以及执行系统在权利要求书中公布了：1.一种形成氮化硅层的方法，所述方法包括以下步骤： 在反应室内提供衬底； 将所述衬底暴露于包含硅和氢的前体，用于硅热吸附于所述衬底的表面，而不暴露于等离子体过程； 将所述衬底暴露于由包括氮和氢的一种或多种气体形成的活性物种以在衬底表面上形成N—H和或N—H2基团；以及 在所述反应室内在所述衬底的形成N—H和或N—H2基团的表面上沉积氮化硅层， 其中，所述沉积过程包括： 将前体提供到所述反应室； 吹扫所述反应室； 在所述反应室内形成活性反应物物种；以及 吹扫活性反应物物种。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人ASM IP私人控股有限公司，其通讯地址为：荷兰阿尔梅勒；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号