恭喜三菱综合材料株式会社石川史朗获国家专利权
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龙图腾网恭喜三菱综合材料株式会社申请的专利等离子体处理装置用部件和其制造方法及等离子体处理装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115191024B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-01发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202180017626.1,技术领域涉及:H01L21/3065;该发明授权等离子体处理装置用部件和其制造方法及等离子体处理装置是由石川史朗;仓田悠都;八十岛司;盐野一郎;片濑琢磨设计研发完成,并于2021-03-05向国家知识产权局提交的专利申请。
本等离子体处理装置用部件和其制造方法及等离子体处理装置在说明书摘要公布了:该等离子体处理装置用部件10,22的特征在于,具有基材12,23和设置在所述基材的一面的导热层13,24,所述导热层13,24包含氟系树脂及氟系弹性体中的至少一者。
本发明授权等离子体处理装置用部件和其制造方法及等离子体处理装置在权利要求书中公布了:1.一种等离子体处理装置用部件,其特征在于, 具有基材和设置在所述基材的一面的导热层, 所述导热层包含氟系树脂及氟系弹性体中的至少一者和填料, 所述填料为选自氧化铝、氧化铝水合物、氮化铝、二氧化硅、碳化硅、氧化钛及氮化硼中的一种或两种以上, 所述导热层中的所述填料的含量在50质量%以上且90质量%以下的范围内, 所述等离子体处理装置用部件为聚焦环。
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