恭喜豪雅株式会社;HOYA电子新加坡股份有限公司野泽顺获国家专利权
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龙图腾网恭喜豪雅株式会社;HOYA电子新加坡股份有限公司申请的专利掩模坯、转印用掩模及半导体器件的制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115280236B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180020424.2，技术领域涉及：G03F1/32；该发明授权掩模坯、转印用掩模及半导体器件的制造方法是由野泽顺;穐山圭司;T.L.何;H.J.唐设计研发完成，并于2021-03-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本掩模坯、转印用掩模及半导体器件的制造方法在说明书摘要公布了：本发明的目的在于提供一种掩模坯，该掩模坯容易目视辨认形成有薄膜的区域与未形成有薄膜的区域的边界，使得设置于形成薄膜的溅射装置上的掩模板的位置调整变得容易。一种掩模坯，具备基板和薄膜，其特征在于，所述基板具有两个主表面和侧面，在所述两个主表面与所述侧面之间设有倒角面，所述两个主表面中的一个主表面具有：包含该主表面的中心的内侧区域和该内侧区域的外侧的外周区域，在所述主表面的内侧区域上设有所述薄膜，所述外周区域对波长400nm～700nm的光的表面反射率Rs为10％以下，将所述薄膜的膜厚为9nm～10nm范围内的部位中的一个部位对波长400nm～700nm的光的表面反射率设为Rf时，对比度RfRs为3.0以上。
本发明授权掩模坯、转印用掩模及半导体器件的制造方法在权利要求书中公布了：1.一种掩模坯，具备基板和薄膜，其特征在于， 所述基板具有两个主表面和侧面，在所述两个主表面与所述侧面之间设有倒角面， 所述两个主表面中的一个主表面具有：包含该主表面的中心的内侧区域、该内侧区域的外侧的外周区域， 在所述主表面的内侧区域上设有所述薄膜， 所述主表面的外周区域对波长400nm～700nm的光的表面反射率Rs为10％以下， 将所述薄膜的膜厚为9nm～10nm范围内的部位中的一个部位对波长400nm～700nm的光的表面反射率设为Rf时，作为对比度的RfRs为3.0以上。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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