恭喜纽富来科技股份有限公司加藤靖雄获国家专利权
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龙图腾网恭喜纽富来科技股份有限公司申请的专利多带电粒子束描绘装置以及多带电粒子束描绘方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115398598B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180027978.5，技术领域涉及：H01L21/027；该发明授权多带电粒子束描绘装置以及多带电粒子束描绘方法是由加藤靖雄;川名亮设计研发完成，并于2021-03-16向国家知识产权局提交的专利申请。
本多带电粒子束描绘装置以及多带电粒子束描绘方法在说明书摘要公布了：本发明的一个方式的多带电粒子束描绘装置的特征在于，具备：射束形成机构，形成多带电粒子束；剂量运算电路，对试样上的各位置处的剂量进行运算；追加剂量分配电路，将多带电粒子束中的、无法进行射束的剂量控制而照射的剂量过剩的剂量过剩缺陷射束，照射到在过剩剂量扩散的范围内用于抵消过剩剂量的剂量不足的位置，由此，将用于使基于在试样产生的过剩剂量的第1剂量分布成为中心位于第1剂量分布的范围内且位于存在用于抵消过剩剂量的射束照射的描绘对象的图案的内侧的第2剂量分布的追加剂量，分配给图案内的位置；校正电路，进行校正，以从向上述第2剂量分布的中心或者第2剂量分布的中心的附近照射的剂量减少由于分配追加剂量而在第2剂量分布的中心产生的剂量增加量；以及描绘机构，使用包含剂量过剩缺陷射束的多带电粒子束，在试样上描绘图案。
本发明授权多带电粒子束描绘装置以及多带电粒子束描绘方法在权利要求书中公布了：1.一种多带电粒子束描绘装置，其特征在于，具备： 射束形成机构，形成多带电粒子束； 剂量运算电路，对试样上的各位置处的剂量进行运算； 追加剂量分配电路，将上述多带电粒子束中的、无法进行射束的剂量控制而照射的剂量过剩的剂量过剩缺陷射束，照射到在过剩剂量扩散的范围内用于抵消过剩剂量的剂量不足的位置，由此，将用于使基于在上述试样产生的过剩剂量的第1剂量分布成为中心位于上述第1剂量分布的范围内且位于存在用于抵消过剩剂量的射束照射的描绘对象的图案的内侧的第2剂量分布的追加剂量，分配给上述图案内的位置； 校正电路，进行校正，以从向上述第2剂量分布的中心或者上述第2剂量分布的中心的附近照射的剂量减少由于分配上述追加剂量而在上述第2剂量分布的中心产生的剂量增加量；以及 描绘机构，使用包含上述剂量过剩缺陷射束的上述多带电粒子束，在试样上描绘图案。
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