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龙图腾网获悉宁波特粒科技有限公司申请的专利氧化硅中空粒子、其制备方法、涂料组合物及物品获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116022790B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111336748.5，技术领域涉及：C01B33/12；该发明授权氧化硅中空粒子、其制备方法、涂料组合物及物品是由赵永亮设计研发完成，并于2021-11-12向国家知识产权局提交的专利申请。

本氧化硅中空粒子、其制备方法、涂料组合物及物品在说明书摘要公布了：本发明涉及氧化硅中空粒子、其制备方法、涂料组合物及物品。本发明的氧化硅中空粒子由以氧化硅为主要成分的壳形成，壳的厚度为5～100nm，在壳上具有4～10纳米的介孔，氧化硅中空粒子的孔容为0.35～0.65cm3g，孔隙率为40％～60％，折射率为1.15～1.35。本发明的氧化硅中空粒子的制备方法能够不使用模板直接得到中空结构，粒子内部和球壳同时存在孔隙，提高孔隙率的同时保证力学强度，无需添加任何分散助剂即可得到高浓度粒子分散液，广泛用于透明的减反射涂层，并且制备过程不引入任何金属或非金属离子，具有优异的低介电特性，球壳含有介孔通道，能够用于包覆及缓释。

本发明授权氧化硅中空粒子、其制备方法、涂料组合物及物品在权利要求书中公布了：1.一种氧化硅中空粒子的制备方法，其特征在于， 所述氧化硅中空粒子由以氧化硅为主要成分的壳形成，所述壳的厚度为5~100nm，在所述壳上具有4~10纳米的介孔，所述的以氧化硅为主要成分是指，氧化硅的比例为90质量%以上， 所述氧化硅中空粒子的孔容为0.35~0.65cm3g，孔隙率为40%~60%，折射率为1.15~1.35， 所述氧化硅中空粒子的制备方法包括以下步骤： （1）有机硅中间体生成步骤：将硅前驱体、酸酐、第一催化剂混合，加热进行反应，并除去第一反应副产物，得到有机硅中间体的步骤； （2）具有界面活性的有机硅中间体生成步骤：将所述步骤（1）得到的有机硅中间体与含羟基的亲水化合物混合，加热进行反应，并除去第二反应副产物，得到具有界面活性的有机硅中间体的步骤； （3）氧化硅中空粒子生成步骤：将所述步骤（2）得到的具有界面活性的有机硅中间体与含水溶剂、第二催化剂混合进行反应，得到含有氧化硅中空粒子的分散液的步骤， 所述硅前驱体为下述式I所示的硅烷单体，或者为二氧化硅的质量百分比80%以下的聚烷氧基硅氧烷低聚物， R1 4-nSiOR2n式I 其中n=2~4； R1为烷基、乙烯基烷基、环氧基烷基、苯乙烯基烷基、甲基丙烯酰氧基烷基、丙烯酰氧基烷基、氨基烷基、脲烷基、氯丙基烷基、硫烷基、异氰酸酯烷基、或者羟基烷基，有多个R1时，各R1彼此任选相同或不同； R2为碳原子数为1~6的烷基，有多个R2时各R2彼此任选相同或不同； 所述步骤（1）中的所述酸酐为选自苯酐、醋酸酐、甲酸酐、丙酸酐、马来酸酐、铬酸酐中的至少一种，所述酸酐与所述硅前驱体的摩尔比为0.01：1以上且小于2：1； 所述步骤（1）中的所述第一催化剂为选自金属醇盐、金属羧酸盐中的至少一种，所述第一催化剂与所述硅前驱体的摩尔比为（0.01~10）：100。

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