FEI 公司C·汤普森获国家专利权
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龙图腾网获悉FEI 公司申请的专利用于针对高反应性材料执行样品提取的系统和方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116385341B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211718548.0，技术领域涉及：G06T7/00；该发明授权用于针对高反应性材料执行样品提取的系统和方法是由C·汤普森;D·埃利斯;A·斯托克斯;R·凯利;C·布谢-马奎斯设计研发完成，并于2022-12-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于针对高反应性材料执行样品提取的系统和方法在说明书摘要公布了：本文中公开用于在样品操控器与带电粒子系统内的样品之间创建附接的方法和系统。方法包含使样品操控器平移使得其靠近样品，及对所述样品操控器的部分进行铣削使得去除部分。所述样品操控器的靠近所述样品的所述部分是由高溅射产率材料构成，且所述高溅射产率材料可以是运用带电粒子束铣削的材料，使得其从所述样品操控器去除。根据本公开，所述样品操控器的所述部分被铣削，使得被去除的高溅射产率材料中的至少一些重新沉积以在所述样品操控器与所述样品之间形成附接。
本发明授权用于针对高反应性材料执行样品提取的系统和方法在权利要求书中公布了：1.一种用于在样品操控器与带电粒子系统内的样品之间创建附接的方法，所述方法包括：使样品操控器平移，使得其靠近样品，其中所述样品操控器的靠近所述样品的部分是由高溅射产率材料构成；及 运用带电粒子束对所述高溅射产率材料进行铣削，使得所述高溅射产率材料的部分从所述样品操控器去除，且其中被去除的高溅射产率材料中的至少一些再沉积以在所述样品操控器与所述样品之间形成附接， 其中所述样品操控器包括附接到探针的中间主体，其中所述中间主体是由所述高溅射产率材料构成，其中所述中间主体通过包括以下各项的过程附接到所述样品操控器的探针部分： 使所述探针部分平移，使得其靠近所述中间主体；及 运用所述带电粒子束对所述中间主体的靠近所述探针的部分进行铣削， 其中被去除的中间主体中的至少一些再沉积以在所述探针部分与所述中间主体之间形成附接，以及 当运用30kV聚焦离子束照射所述高溅射产率材料时，所述高溅射产率材料对应于每离子大于5个原子的发射速率。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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