上海普利生机电科技有限公司戴湘岳获国家专利权
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龙图腾网获悉上海普利生机电科技有限公司申请的专利微流控芯片的制作方法及三维打印设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116638752B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310610834.3，技术领域涉及：B29C64/124；该发明授权微流控芯片的制作方法及三维打印设备是由戴湘岳;侯锋;姜新设计研发完成，并于2023-05-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本微流控芯片的制作方法及三维打印设备在说明书摘要公布了：本申请提供了一种微流控芯片的制作方法及设备，包括准备具有微流道的基片，基片具有相对的第一表面和第二表面，微流道包括位于第一表面的第一微流道；在基片的第一表面压覆盖片，并使盖片和基片之间具有第一打印物料层；以及曝光第一打印物料层并同时避开第一微流道对应的区域，使基片和盖片键合。本申请中的微流控芯片的制作方法及设备，便于微流控芯片的电极玻璃和流道部分的键合，提高键合面平整度，提升准备工艺流畅度。
本发明授权微流控芯片的制作方法及三维打印设备在权利要求书中公布了：1.一种三维打印设备，适用于制作微流控芯片，所述三维打印设备包括： 物料缸，适于装载打印物料； 光源，位于所述物料缸的上方； 成型平台，可升降地设置于所述物料缸中，所述成型平台适于承载所述微流控芯片具有微流道的基片，所述基片具有相对的第一表面和第二表面，其中，所述第一表面朝向所述光源，且所述光源和所述成型平台之间具有用于曝光的曝光空间； 第一盖板，可移动地设置于所述曝光空间中的曝光位或所述曝光位之外的休止区域，所述第一盖板适于进入所述曝光空间并停留在所述曝光位、或离开所述曝光位后到达所述休止区域，其中，当所述第一盖板位于所述曝光位时，所述第一盖板的透光区域对准所述光源； 夹持机构，用于夹持所述微流控芯片的盖片；以及 控制器，配置为在控制所述第一盖板离开所述曝光位并到达所述休止区域后，控制所述夹持机构移动而在所述基片的第一表面压覆所述盖片，并使所述盖片和所述基片之间具有第一打印物料层，且控制所述光源曝光所述第一打印物料层，使所述基片和所述盖片键合。
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