吉通科技(广州)有限公司冼剑光获国家专利权
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龙图腾网获悉吉通科技(广州)有限公司申请的专利改进的一种提高光刻机分辨率的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119356036B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410984711.0，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权改进的一种提高光刻机分辨率的方法是由冼剑光设计研发完成，并于2024-07-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本改进的一种提高光刻机分辨率的方法在说明书摘要公布了：改进的一种提高光刻机分辨率的方法，本发明将光存储单元置于物镜和晶圆之间，曝光时，信号光经过透镜系统后，在光存储单元以原子自旋波的形式临时保存，光的能量转化为光存储单元介质原子的能量，随后所存储的光信息会按照原来的方向释放出来，可以视为1个理想的点光源，这个点光源按照原来的方向传播，由于传播的路径没有透镜孔径限制，有效孔径变大，对应的艾里斑变小，最小可分辨尺寸就会降低，当这个点光源达到晶圆时，艾里斑宽度变窄，光刻机的分辨率得到大幅提升，这样的益处在于对光刻机的孔径要求可以降低，为了实现同样的分辨率要求，透镜成像系统可以采用小的孔径，这无形中降低了制造的难度和成本。
本发明授权改进的一种提高光刻机分辨率的方法在权利要求书中公布了：1.改进的一种提高光刻机分辨率的方法，包括光慢光或者光存储单元，其特征在于，在光刻机应用中，所述单元置于光罩和晶圆之间的任意位置，曝光的光线经过光慢光或者光存储单元处理后，在介质中和离开介质后其艾里斑宽度变窄。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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