星钥半导体(武汉)有限公司请求不公布姓名获国家专利权
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龙图腾网获悉星钥半导体(武汉)有限公司申请的专利一种清理结构及抛光装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223044337U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-01发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202421818024.3，技术领域涉及：B24B53/017；该实用新型一种清理结构及抛光装置是由请求不公布姓名设计研发完成，并于2024-07-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种清理结构及抛光装置在说明书摘要公布了：本说明书提供一种清理结构及抛光装置，所述清理结构包括：保湿槽、第一湿润喷头和第二湿润喷头；所述保湿槽的内部设有清洗空间，所述第一湿润喷头和所述第二湿润喷头均固定于所述保湿槽，并进入所述清洗空间；所述摆动结构包括摆臂和用于接触抛光垫的修整碟，所述修整碟转动连接于所述摆臂的朝向抛光垫的一侧，所述第一湿润喷头用于喷洒所述修整碟，所述第二湿润喷头用于喷洒所述摆臂。具有避免在工作状态时摆臂上的结晶物掉落在抛光垫上刮伤抛光垫和保持修整碟湿润的优点。
本实用新型一种清理结构及抛光装置在权利要求书中公布了：1.一种清理结构，用于对抛光垫进行清理的摆动结构进行清理，其特征在于： 所述清理结构包括保湿槽10、第一湿润喷头20和第二湿润喷头30； 所述保湿槽10的内部设有清洗空间40，所述第一湿润喷头20和所述第二湿润喷头30均固定于所述保湿槽10，并进入所述清洗空间40； 所述摆动结构包括摆臂80和用于接触抛光垫3的修整碟81，所述修整碟81转动连接于所述摆臂80的朝向抛光垫3的一侧，所述第一湿润喷头20用于喷洒所述修整碟81，所述第二湿润喷头30用于喷洒所述摆臂80。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人星钥半导体(武汉)有限公司，其通讯地址为：430206 湖北省武汉市东湖新技术开发区未来科技城龙山南街6号展想新思中心1号楼8楼808单元；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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