上海精测半导体技术有限公司陈雅馨获国家专利权
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龙图腾网获悉上海精测半导体技术有限公司申请的专利一种光谱测量系统及光谱式厚度测量系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116429257B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310233665.6，技术领域涉及：G01J3/28；该发明授权一种光谱测量系统及光谱式厚度测量系统是由陈雅馨;李仲禹;董诗浩设计研发完成，并于2023-03-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种光谱测量系统及光谱式厚度测量系统在说明书摘要公布了：本发明提供一种光谱测量系统及光谱式厚度测量系统，光谱测量系统包括光源模块、色散元件、探测器、位移台控制器和位移台；光源模块提供入射光，入射光照射样品上的第一区域产生第一干涉光，第一干涉光经色散元件入射至探测器生成第一相干光谱；位移台控制器控制位移台移动样品以使入射光照射样品上的第二区域产生第二干涉光，第二区域和第一区域部分相交，第二干涉光经色散元件入射至探测器生成第二相干光谱；基于第二相干光谱补偿第一相干光谱。光谱式厚度测量系统包括光谱测量系统，并基于光谱数据库和补偿后的第一相干光谱得到第一区域的厚度。本发明通过位移台移动样品的位置以补偿因探测器的空间分辨率限制而遗漏的样品上的光谱信息。
本发明授权一种光谱测量系统及光谱式厚度测量系统在权利要求书中公布了：1.一种光谱测量系统，其特征在于，包括光源模块、色散元件、探测器、位移台控制器和用于放置样品的位移台，所述光源模块包括线光源或面光源； 所述光源模块提供入射光，所述入射光照射样品上的第一区域经不同界面反射后产生第一干涉光，所述第一干涉光经所述色散元件入射至所述探测器生成第一相干光谱； 所述位移台控制器控制位移台移动样品以使所述入射光照射样品上的第二区域经不同界面反射后产生第二干涉光，所述第二区域和第一区域部分相交，所述第二干涉光经所述色散元件入射至所述探测器生成第二相干光谱； 基于所述第二相干光谱补偿所述第一相干光谱获得经补偿后的第一相干光谱，以提高所述探测器的空间分辨率。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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