恭喜日进材料股份有限公司宋基德获国家专利权
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龙图腾网恭喜日进材料股份有限公司申请的专利薄膜电容器制造用镍箔及其制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114586121B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201980101536.3，技术领域涉及：H01G4/33；该发明授权薄膜电容器制造用镍箔及其制造方法是由宋基德;梁畅烈;尹相华设计研发完成，并于2019-12-17向国家知识产权局提交的专利申请。
本薄膜电容器制造用镍箔及其制造方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种电解镍箔，在该电解镍箔的至少一侧的平坦表面的表面粗糙度Ra为0.05μm以下，Rz为0.2μm以下，并且Rt为0.5μm以下，并且通过测量60°镜面反射角从而测定的光泽度为至少200GU。
本发明授权薄膜电容器制造用镍箔及其制造方法在权利要求书中公布了：1.一种制备薄膜电容器用电解镍箔的方法， 其中，所述电解镍箔包括至少一个平坦表面，所述平坦表面的算术平均粗糙度Ra为0.05μm以下，十点平均粗糙度Rz为0.20μm以下，最大凸起高度Rt为0.50μm以下，并且60°镜面光泽度为200GU以上， 所述方法包括用pH为1至5的电解液进行电解电镀，所述电解液包含400gL至600gL的镍离子前体、10gL至30gL的pH缓冲液、粗糙度控制剂， 所述粗糙度控制剂包含0.1gL至1gL糖精和0.4gL至0.8gL烯丙基磺酸钠。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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