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龙图腾网恭喜北京北方华创微电子装备有限公司申请的专利半导体工艺设备及其门阀机构获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115707526B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110961182.9，技术领域涉及：B08B5/02；该发明授权半导体工艺设备及其门阀机构是由赵万辉;邓晓军设计研发完成，并于2021-08-20向国家知识产权局提交的专利申请。

本半导体工艺设备及其门阀机构在说明书摘要公布了：本申请实施例提供了一种半导体工艺设备及其门阀机构。该门阀机构设置于传输腔及工艺腔室之间，用于选择性连通或关断传输腔及工艺腔室，以供机械手传输晶圆，其包括：门阀组件、吹扫结构及排气结构；门阀组件包括有固定块及门板，固定块具有传片通道，门板与固定块连接，用于选择性连通或关断传片通道；吹扫结构与固定块连接，并且与传片通道连通，用于在传片过程中向传片通道内通入气体，以对晶圆进行吹扫；排气结构与固定块连接，并且与传片通道连通，用于排出传片通道内的气体。本申请实施例实现了在传片过程中对晶圆进行吹扫，以大幅降低晶圆被颗粒污染的风险，从而大幅减小晶圆外延层中缺陷数量，进而大幅提高晶圆的良率。

本发明授权半导体工艺设备及其门阀机构在权利要求书中公布了：1.一种半导体工艺设备的门阀机构，设置于传输腔及工艺腔室之间，用于选择性连通或关断所述传输腔及工艺腔室，以供机械手传输晶圆，其特征在于，包括：门阀组件、吹扫结构及排气结构； 所述门阀组件包括有固定块及门板，所述固定块具有传片通道，所述门板与所述固定块连接，用于选择性连通或关断所述传片通道； 所述吹扫结构与所述固定块连接，并且与所述传片通道连通，用于在传片过程中向所述传片通道内通入气体，以对所述晶圆进行吹扫； 所述排气结构与所述固定块连接，并且与所述传片通道连通，用于排出所述传片通道内的气体； 所述传片通道包括第一端及第二端，所述第一端用于与所述工艺腔室连接，所述第二端用于与所述传输腔连接； 所述传片通道的内壁上设有第一进气口，所述第一进气口靠近所述第一端设置； 所述吹扫结构包括第一进气管路，所述第一进气管路与所述第一进气口连通，当所述晶圆由第二端向第一端传输时，所述第一进气管路对所述晶圆进行吹扫； 所述传片通道的内壁上设有第二进气口，所述第二进气口靠近所述第二端设置； 所述吹扫结构还包括第二进气管路，所述第二进气管路与所述第二进气口连通，当所述晶圆由第一端向第二端传输时，所述第二进气管路对所述晶圆进行吹扫； 所述吹扫结构还包括有第一导流组件及第二导流组件，所述第一导流组件和所述第二导流组件分别设置于所述第一进气口和所述第二进气口处，所述第一导流组件用于将所述第一进气管路通入的气体向所述第二端进行导流，所述第二导流组件用于将所述第二进气管路通入的气体向所述第一端进行导流。

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