京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司杨恩建获国家专利权
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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司申请的专利保护膜及其制备方法、显示模组获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115862488B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210465408.0，技术领域涉及：G09F9/33；该发明授权保护膜及其制备方法、显示模组是由杨恩建;彭星;高亮;孙浩;王永乐;都阿娟;黄小霞;李非凡;陈伟;黄允晖;吴易谦;杨虎飞;曾国栋;曾乙伦设计研发完成，并于2022-04-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本保护膜及其制备方法、显示模组在说明书摘要公布了：本申请提供一种保护膜及其制备方法、显示模组。其中保护膜，包括散热层，所述散热层的边缘处具有缺口；封边层，围绕所述散热层设置并填充所述缺口；其中，所述封边层开设第一开孔，所述第一开孔与所述缺口的位置相对应。通过设置散热层的边缘处具有缺口；封边层围绕所述散热层设置并填充所述缺口，能够使封边层的用于填充缺口的部分与用于围绕散热层的部分一体连接，在裁切散热层和封边层时尽量避免散热层和封边层需要接触的两个边缘错位，使散热层和封边层需要接触的两个边缘尽量齐平，降低散热层和封边层在压合之后相接触的两个边缘之产生间隙的风险，进而降低产生模印的风险。
本发明授权保护膜及其制备方法、显示模组在权利要求书中公布了：1.一种保护膜，其特征在于，所述保护膜设置在显示面板的背光侧；所述保护膜包括： 散热层，所述散热层的边缘处具有缺口； 封边层，围绕所述散热层设置并填充所述缺口；所述封边层的用于填充所述缺口的部分，与所述封边层的用于围绕散热层的部分一体连接； 其中，所述封边层开设第一开孔，所述第一开孔与所述缺口的位置相对应；所述第一开孔设置在所述缺口的远离所述边缘的位置；所述第一开孔用于避让指纹识别模块。
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