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龙图腾网获悉上海人工智能创新中心申请的专利一种晶圆级系统集成装配的测试电路以及测试方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117712097B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311611872.7，技术领域涉及：H01L23/544；该发明授权一种晶圆级系统集成装配的测试电路以及测试方法是由王磊;姜申飞;胡杨;赵可成;韩慧明;郝培霖;张燕设计研发完成，并于2023-11-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种晶圆级系统集成装配的测试电路以及测试方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种晶圆级系统集成装配的测试电路以及测试方法。该测试电路包括：晶圆级转接测试电路，晶圆级转接测试电路包括晶圆、连接焊盘、金属凸点，晶圆包括测试区和功能区，晶圆内设置有硅通孔，连接焊盘与硅通孔连接，金属凸点与硅通孔连接，测试区内导电连线位于连接焊盘远离晶圆的一侧，用于连接两连接焊盘；测试结构，测试结构为内置于功能芯片内部的测试电路，测试结构所在功能芯片位于连接焊盘远离晶圆的一侧，预选的连接焊盘和硅通孔的焊接良好。本发明实施例提供的技术方案实现了在晶圆级系统集成装配中对晶圆级系统进行测试，可及时发现生产缺陷，监控和预警产品失效，为晶圆级系统提前隔离、修复或置换，提供必要诊断信息。

本发明授权一种晶圆级系统集成装配的测试电路以及测试方法在权利要求书中公布了：1.一种晶圆级系统集成装配的测试电路，其特征在于，包括： 晶圆级转接测试电路，所述晶圆级转接测试电路包括晶圆、连接焊盘、金属凸点，所述晶圆包括测试区和功能区，所述晶圆内设置有硅通孔，所述连接焊盘位于所述晶圆的第一表面与所述硅通孔连接，所述金属凸点位于所述晶圆与所述第一表面相对的第二表面，所述金属凸点与所述硅通孔连接，所述测试区内导电连线位于所述连接焊盘远离所述晶圆的一侧，用于连接两连接焊盘； 晶圆级系统在预处理阶段，晶圆级转接测试电路的测试区的两金属凸点的导通情况，用于检测测试区内连接焊盘和硅通孔的焊接是否良好；测试区内连接焊盘和硅通孔的焊接是否良好，用于判断功能区内连接焊盘和硅通孔的焊接是否良好，以完成功能区内硅通孔通路的测试； 测试结构，所述测试结构为内置于功能芯片内部的测试电路，测试结构所在功能芯片位于所述连接焊盘远离所述晶圆的一侧，所述测试结构所在功能芯片的引脚和预选的连接焊盘一一对应接触，所述预选的连接焊盘和所述硅通孔的焊接良好； 晶圆级系统在芯片封装测试阶段，测试区内与预选的连接焊盘对应连接的所述金属凸点处是否有预设电信号，用于检测测试结构所在功能芯片的边角的引脚和所述预选的连接焊盘的连接是否良好；测试区内测试结构所在功能芯片的边角的引脚和所述预选的连接焊盘的连接是否良好，用于判断功能区内功能芯片封装于连接焊盘后边缘是否发生翘曲； 晶圆级系统在可靠性测试阶段，预选的测试结构的电学性能，用于检测晶圆级系统集成装配的生命周期的可靠性，其中，所述预选的测试结构所在功能芯片的引脚和所述预选的连接焊盘的连接良好； 还包括光刻工艺对齐测试电路，所述光刻工艺对齐测试电路位于所述测试区，所述光刻工艺对齐测试电路用于确定功能区内晶圆表面和或晶圆内两次光刻工艺形成的金属线的连接是否良好； 所述光刻工艺对齐测试电路包括： 第一金属凸点，所述第一金属凸点位于测试区内所述晶圆的表面，在第一方向间隔排列； 第二金属凸点，所述第二金属凸点位于测试区内所述晶圆的表面，在第一方向间隔排列，在第二方向上，所述第二金属凸点和所述第一金属凸点一一对应间隔排列； 多个不同线宽的第一金属线，通过第一次光刻和刻蚀工艺形成，所述第一金属线与所述第一金属凸点一一对应连接； 多个不同线宽的第二金属线，通过第二次光刻和刻蚀工艺形成，其中，所述第二金属线与所述第二金属凸点一一对应连接，且所述第二金属线与所述第一金属线一一对应连接，相互连接的所述第一金属线和所述第二金属线的线宽相同； 所述第一金属凸点和所述第二金属凸点能否导通，用于检测在第二方向上，相连的所述第一金属线和所述第二金属线之间的连接是否良好； 连接良好的所述第一金属线和所述第二金属线的线宽，用于确定保证所述第一金属线和所述第二金属线之间的连接良好的线宽范围，进而用于确定两次光刻工艺形成的金属线可连接良好的线宽范围； 两次光刻工艺形成的金属线可连接良好的线宽范围，用于确定功能区内晶圆表面和或晶圆内两次光刻工艺形成的金属线的连接是否良好。

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