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龙图腾网获悉上海谙邦半导体设备有限公司申请的专利一种进气装置及包含该装置的半导体加工设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118335583B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410421487.4，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权一种进气装置及包含该装置的半导体加工设备是由沈康;吴磊;涂乐义;梁洁;王兆祥设计研发完成，并于2024-04-09向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种进气装置及包含该装置的半导体加工设备在说明书摘要公布了：本申请实施例涉及半导体加工技术领域，特别涉及一种进气装置及包含该装置的半导体加工设备。其中的进气装置包括第一管道、第二管道和流通结构。第一管道具有供第一类气体流通的第一通道；第二管道，沿第一管道的轴线方向进入第一通道内、并在第一通道内同轴延伸，第二管道具有供第二类气体流通的第二通道，第二通道的末端邻近第一通道的端部设置；流通结构，设置在第二管道上并位于第一通道内，流通结构具有均匀环绕第二管道轴向设置、且朝向与第二管道轴向形成第一预设角度的多个第一气体通道。本申请实施方式提供的进气装置及包含该装置的半导体加工设备，能够在多种气体无预混的情况下，实现多路气体的均匀进气。

本发明授权一种进气装置及包含该装置的半导体加工设备在权利要求书中公布了：1.一种进气装置，用于向反应腔中通入工艺气体，其特征在于，包括： 第一管道，具有供第一类气体流通的第一通道； 第二管道，沿所述第一管道的轴线方向进入所述第一通道内、并在所述第一通道内同轴延伸，所述第二管道具有供第二类气体流通的第二通道，所述第二通道的末端邻近所述第一通道的端部设置； 流通结构，设置在所述第二管道上并位于所述第一通道内，所述流通结构具有均匀环绕所述第二管道轴向设置、且朝向与所述第二管道轴向形成第一预设角度的多个第一气体通道，所述第一通道和所述第二通道二者中的一者的端部用于连通反应腔的进气口，且另一者内流通的气体经由所述流通结构沿与所述第二管道轴向形成所述第一预设角度的方向进入与反应腔的进气口连通的一者中，使二者内流通的气体共同进入反应腔的进气口，所述流通结构在气体的流动路径上邻近反应腔的进气口设置； 所述第一通道与所述第二通道二者中与反应腔的进气口连通的一者末端设有喷头，所述喷头具有环绕所述第一管道轴向设置、且朝向与所述第一管道轴向形成第二预设角度的多个第二气体通道，所述第一通道与所述第二通道内流通的气体经由所述第二气体通道沿与所述第一管道轴向形成所述第二预设角度的方向共同进入所述反应腔。

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