苏州耀德半导体有限公司赖学明获国家专利权
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龙图腾网获悉苏州耀德半导体有限公司申请的专利一种CVD工艺腔反应气体精准分布装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223016960U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-24发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422076595.0，技术领域涉及：C23C16/455；该实用新型一种CVD工艺腔反应气体精准分布装置是由赖学明设计研发完成，并于2024-08-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种CVD工艺腔反应气体精准分布装置在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种CVD工艺腔反应气体精准分布装置，属于气体分布装置技术领域，其一种CVD工艺腔反应气体精准分布装置，包括上盖板，所述上盖板的上端中部设置有气体调节阀，所述上盖板的上侧内部固定安装有导流管，所述上盖板的下侧固定安装有安装板，所述安装板的下侧固定安装有若干个喷头底座，所述喷头底座的中部固定安装有雾化喷头，所述雾化喷头的上端与导流管连接，通过设置有开关钮和雾化喷头的结构，操作人员可以根据需要，使用开关钮把不需要进行喷涂位置的雾化喷头上侧的电动开关阀关闭，并通过隔离装置把区域进行隔离，可以对下侧的工件进行喷涂反应，减少生产步骤，提高加工效率。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人苏州耀德半导体有限公司，其通讯地址为：215000 江苏省苏州市工业园区唯西路26号2号厂房101室；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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