上海积塔半导体有限公司郭俊获国家专利权
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龙图腾网获悉上海积塔半导体有限公司申请的专利控片组件及物理气相沉积设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223003018U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-20发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422172064.1，技术领域涉及：C23C14/54；该实用新型控片组件及物理气相沉积设备是由郭俊;拉海忠;闫晓晖设计研发完成，并于2024-09-04向国家知识产权局提交的专利申请。
本控片组件及物理气相沉积设备在说明书摘要公布了：本实用新型提供了控片组件及物理气相沉积设备，控片组件包括：控片本体；位于控片本体上方的遮挡盘，其上设置有至少一个工作窗口，工作窗口露出下方的控片本体；耦接控片本体与遮挡盘的连接杆；控片本体与遮挡盘通过连接杆呈可转动连接。在一次测试结束后，由于控片本体与遮挡盘为可转动连接，因此通过转动控片本体或遮挡盘，使得工作窗口对准控片本体上的未镀膜区域，并继续进行下一轮PVD测试。使用本实施方式的控片组件，每次镀膜时，仅通过离散的工作窗口在控片本体的局部区域进行镀膜及监控，而无需对整片控片本体进行镀膜，而且通过控片本体和遮挡盘之间的转动配合，能够提高控片本体的单片利用率。
本实用新型控片组件及物理气相沉积设备在权利要求书中公布了：1.一种控片组件，其特征在于，包括：控片本体；位于所述控片本体上方的遮挡盘，其上设置有至少一个工作窗口，所述工作窗口露出下方的所述控片本体；耦接所述控片本体与所述遮挡盘的连接杆；所述控片本体与所述遮挡盘通过所述连接杆呈可转动连接。
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