北京龙迈达斯科技开发有限公司毛静涛获国家专利权
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龙图腾网获悉北京龙迈达斯科技开发有限公司申请的专利一种高分子植入体内材料样本处理方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119280479B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-20发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411399370.7，技术领域涉及：A61L27/30；该发明授权一种高分子植入体内材料样本处理方法是由毛静涛;刘月静;仲丹丹;蔚秋芳;张蕊设计研发完成，并于2024-10-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种高分子植入体内材料样本处理方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种高分子植入体内材料样本处理方法，方法包括如下步骤：将高分子基体材料采用含金属离子的硝酸盐溶液在40‑50℃的温度下进行浸泡10h以上，浸泡之后表面覆膜，所述金属离子包括钇、钽、锆、银、锶金属元素中的任意一种或几种，所述高分子基体材料中至少包括合金；所述覆膜包括最内层的纯钛层、作为中间层的纯钽层、以及作为最外层的钽钇交替层。本发明的高分子植入体内材料样本处理方法通过采用含有金属离子的溶液进行浸泡，以及覆膜的方式，提高了材料本身的生物相容性，抗菌性，以及从根本上提高了材料本身的稳定性。
本发明授权一种高分子植入体内材料样本处理方法在权利要求书中公布了：1.一种高分子植入体内材料样本处理方法，其特征在于，包括如下步骤：将高分子基体材料采用含金属离子的硝酸盐溶液在40-50℃的温度下进行浸泡10h以上，浸泡之后表面覆膜，所述金属离子包括钇、钽、锆、银、锶金属元素中的任意一种或几种，所述高分子基体材料中至少包括合金；所述覆膜包括最内层的纯钛层、作为中间层的纯钽层、以及作为最外层的钽钇交替层；所述金属离子的组成包括：以质量份数计，钇1-5份、钽0.5-2份、锆5-10份、银1-3份、锶0.5-1份；所述纯钛层、所述纯钽层、所述钽钇交替层的厚度比为1：2-3：2-5，所述钽钇交替层互相交替的层数为3-8层，其中钽钇交替层中的钽层贴合在所述纯钽层上，所述纯钛层的厚度为0.05-0.08μm，所述钽钇交替层中的五氧化二钽的含量为60-70wt％，剩余为钇。
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