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龙图腾网获悉海芯瑞(苏州)科技有限公司申请的专利一种用于半导体的净化装置及控制方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119480702B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-20发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411544298.2，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权一种用于半导体的净化装置及控制方法是由涂炎兵;时交警设计研发完成，并于2024-10-31向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种用于半导体的净化装置及控制方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种用于半导体的净化装置，净化装置用于清除晶圆表面的杂质，包括清洗机构，清洗机构包括物料座、导流座、引流件和清洗组件，其中，物料座受控地转动，物料座包括一用于放置晶圆的放置平面，导流座受控地转动。该净化装置，由于采用了物料座和导流座的同轴设置，并使导流面边缘轮廓的半径小于晶圆半径的技术手段，所以有效防止了清洗液进入晶圆与导流座之间的缝隙，进而实现了清洗液流动路径的精确控制，同时，通过同心结构设置的第一环形槽和第二环形槽，将惰性气体和纯水喷在晶圆背侧，从而在晶圆背面形成双重阻断，有效解决了流速不均或溅射导致的清洗液残留问题，进而实现了防止清洗液渗入间隙的效果。

本发明授权一种用于半导体的净化装置及控制方法在权利要求书中公布了：1.一种用于半导体的净化装置，所述净化装置用于清除晶圆表面的杂质，其特征在于，包括：物料座，所述物料座受控地转动，所述物料座包括一放置平面，以用于放置晶圆；导流座，所述导流座受控地转动，且所述导流座的转动轴线与所述物料座的转动轴线同轴设置，所述导流座包括一导流面，所述导流座的转动轴线与所述导流面相垂直，且所述导流面的边缘轮廓为圆形，所述导流面的边缘轮廓对应的半径小于同轴放置在所述放置平面上的晶圆的半径，所述导流座的所述导流面侧开设有第一环形槽和第二环形槽，所述第一环形槽和所述第二环形槽同心设置，且所述第一环形槽的半径小于所述第二环形槽的半径，所述物料座中开设有第一流道和第二流道，所述第一流道的一端与所述第一环形槽连通，所述第一流道的另一端与气源连通，所述第二流道的一端与所述第二环形槽连通，所述第二流道的另一端与液源连通，其中，所述第一环形槽的开口朝向与所述物料座的转动轴线构成第一预设角，所述第二环形槽的开口朝向与所述物料座的转动轴线构成第二预设角，所述导流面与所述放置平面之间存在第一间隙，以使所述物料座的所述放置平面凸出所述导流座的所述导流面设置；引流件，所述引流件受控地转动，且所述引流件的转动轴线与所述导流座的转动轴线同轴设置，所述引流件包括一引流面，所述引流面与所述引流件的转动轴线相垂直，所述引流件的所述引流面与所述导流座的所述导流面之间存在第二间隙，以使所述导流座的所述导流面突出所述引流件的所述引流面设置；清洗组件，所述清洗组件设置在所述物料座背离所述引流件的一侧，所述清洗组件包括喷头，所述喷头的喷口朝向所述放置平面设置。

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