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龙图腾网恭喜温州职业技术学院申请的专利用于激光金属雕刻的功率自适应控制方法及系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119910316B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-20发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510417456.6，技术领域涉及：B23K26/362；该发明授权用于激光金属雕刻的功率自适应控制方法及系统是由张亮;戴乃昌;徐浩浩;鲁孟泽;翁翔;陈礼杭;朱煊设计研发完成，并于2025-04-03向国家知识产权局提交的专利申请。

本用于激光金属雕刻的功率自适应控制方法及系统在说明书摘要公布了：本发明公开了用于激光金属雕刻的功率自适应控制方法及系统，涉及激光加工相关领域，该方法包括：获取光刻需求与光刻目标特性，进行需求剖解，确定光刻几何图谱，其中，光刻几何图谱标识有调频节点，光刻需求为2D刻蚀或3D刻蚀；获取光刻机的集成光栅结构，针对光刻几何图谱，引入光刻调控器进行基于调频节点的两阶调节决策，确定光刻策略，其中，两阶调节包括一阶合束调节与二阶整形调节；光刻策略响应于光刻机，辅助光刻坐标系，对光刻目标的激光雕刻进程进行自适应定位与调频管理。解决了现有用于激光金属雕刻的功率控制存在的精度不足、效率低下的技术问题，达到了提高功率控制精度和效率的技术效果。

本发明授权用于激光金属雕刻的功率自适应控制方法及系统在权利要求书中公布了：1.用于激光金属雕刻的功率自适应控制方法，其特征在于，所述方法包括：获取光刻需求与光刻目标特性，进行需求剖解，确定光刻几何图谱，其中，所述光刻几何图谱标识有调频节点，所述光刻需求为2D刻蚀或3D刻蚀；获取光刻机的集成光栅结构，针对所述光刻几何图谱，引入光刻调控器进行基于调频节点的两阶调节决策，确定光刻策略，其中，两阶调节包括一阶合束调节与二阶整形调节；所述光刻策略响应于光刻机，辅助光刻坐标系，对光刻目标的激光雕刻进程进行自适应定位与调频管理；所述进行需求剖解，确定光刻几何图谱，包括：识别所述光刻需求，转换为光刻全周期下基于光刻轨迹的序列需求，其中，所述序列需求标识有光刻空间角、光刻能效；读取光刻机的光刻模式，以所述光刻目标特性为约束，对所述序列需求进行调频节点确定，生成所述光刻几何图谱，其中，所述光刻目标特性至少包含金属材料特性；所述光刻模式为单轨光刻模式或多轨协同模式；识别所述光刻轨迹，若所述光刻模式为多轨协同模式，对所述光刻轨迹进行光刻分轨，确定模式分轨结果；针对所述模式分轨结果，通过识别所述序列需求，进行需求趋变定位，标识所述调频节点；所述进行需求趋变定位，标识所述调频节点，包括：设定第一需求变量阈值与第二需求变量阈值，其中，第一需求变量阈值大于所述第二需求变量阈值；通过进行轨迹趋变识别，若大于所述第一需求变量阈值，标识为一类调频节点；若大于所述第二需求变量阈值，且小于等于所述第一需求变量阈值，标识为二类调频节点；其中，所述一类调频节点执行一阶合束调节与二阶整形调节，所述二类调频节点执行二阶整形调节。

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