恭喜铭扬半导体科技(合肥)有限公司魏兴武获国家专利权
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龙图腾网恭喜铭扬半导体科技(合肥)有限公司申请的专利抛光设备的抛头和抛光设备获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223000352U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-20发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202520939093.8,技术领域涉及:B24B37/10;该实用新型抛光设备的抛头和抛光设备是由魏兴武;王奕设计研发完成,并于2025-05-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本抛光设备的抛头和抛光设备在说明书摘要公布了:本实用新型公开了一种抛光设备的抛头和抛光设备,抛光设备的抛头包括:抛头主体和真空吸附组件,真空吸附组件包括动洞板和气膜,动洞板设置于气膜内,气膜包括底膜部、第一侧膜部和斜膜部,第一侧膜部周向环绕设置于动洞板外侧壁,斜膜部连接在底膜部和第一侧膜部之间。由此,通过将斜膜部相对底膜部和第一侧膜部均倾斜设置,并使底膜部相对第一侧膜部径向向外凸出设置,这样可以使得底膜部的直径增大,从而可以使得底膜部的直径大于所吸附的物料的直径,可以使底膜部能够充分地覆盖物料,避免抛光过程中抛光液进入底膜部和物料之间,导致物料远离抛光盘的一侧以及底膜部出现摩擦痕迹缺陷,从而可以提升抛光后的物料的品质。
本实用新型抛光设备的抛头和抛光设备在权利要求书中公布了:1.一种抛光设备的抛头,其特征在于,包括:抛头主体(11);真空吸附组件(12),所述真空吸附组件(12)设置于所述抛头主体(11)的底部,所述真空吸附组件(12)包括动洞板(121)和气膜(122),所述动洞板(121)设置于所述气膜(122)内,以与所述气膜(122)支撑贴合,所述气膜(122)包括:底膜部(1221),所述底膜部(1221)设置于所述动洞板(121)的底部,所述动洞板(121)内设置有真空通道(1211),所述底膜部(1221)适于吸附物料(40);第一侧膜部(1222),所述第一侧膜部(1222)周向环绕设置于所述动洞板(121)的外侧壁,所述第一侧膜部(1222)与所述底膜部(1221)在轴向上间隔设置,所述底膜部(1221)相对所述第一侧膜部(1222)径向向外凸出设置;斜膜部(1223),所述斜膜部(1223)连接在所述底膜部(1221)和所述第一侧膜部(1222)之间,所述斜膜部(1223)相对所述底膜部(1221)和所述第一侧膜部(1222)均倾斜设置。
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