恭喜华盛顿大学D·T·邱获国家专利权
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龙图腾网恭喜华盛顿大学申请的专利窄吸收聚合物纳米粒子及相关方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112740018B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201980060997.0，技术领域涉及：G01N21/64；该发明授权窄吸收聚合物纳米粒子及相关方法是由D·T·邱;陈磊;于江波设计研发完成，并于2019-09-16向国家知识产权局提交的专利申请。
本窄吸收聚合物纳米粒子及相关方法在说明书摘要公布了：本发明提供了聚合物、单体、窄带吸收性聚合物、窄带吸收性单体、吸收性单元、聚合物点和相关方法。本发明提供了具有窄带吸收的明亮、发光聚合物纳米粒子。本发明还提供了用于合成吸收性单体的方法，用于合成该聚合物的方法，用于形成该聚合物纳米粒子的制备方法以及使用该聚合物纳米粒子的应用。
本发明授权窄吸收聚合物纳米粒子及相关方法在权利要求书中公布了：1.一种包括聚合物的纳米粒子，所述聚合物包括： 吸收性单体单元，所述吸收性单体单元包括BODIPY、BODIPY衍生物、diBODIPY、diBODIPY衍生物、Atto染料、若丹明、若丹明衍生物、香豆素、香豆素衍生物、花青、花青衍生物、芘、芘衍生物、方酸、方酸衍生物或它们的任何组合；和 发射性单体单元； 其中所述纳米粒子在吸光度最大值的10%处的吸收宽度小于150nm； 其中吸收性单体单元与发射性单体单元的数量比率大于4:1。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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