恭喜上海大学朱勇获国家专利权
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龙图腾网恭喜上海大学申请的专利一种针对铜族金属耐腐蚀性晶面的快速筛选方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115171809B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210843852.1，技术领域涉及：G16C20/64；该发明授权一种针对铜族金属耐腐蚀性晶面的快速筛选方法是由朱勇;孙升;张统一设计研发完成，并于2022-07-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种针对铜族金属耐腐蚀性晶面的快速筛选方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种针对铜族金属耐腐蚀性晶面的快速筛选方法，包括：采用层状平板周期模型模拟金属在电化学界面的溶解过程，输出电子密度分布文件；对输出文件进行预处理，得到沿Z轴的面平均电子密度分布曲线；划分结构的原子层内与层间区域；对电子密度在层间与层内区域的变化进行分析，通过层间电子数占比判断铜族金属不同晶面的电极结构耐腐蚀溶解性能。本发明创新地对第一性原理计算模型的原子层内与层间区域进行划分，可更为高效地对铜族金属结构的电子密度进行量化计算，并最终得到简洁清晰的电子数占比分布图，对结构变化造成的电子密度分布差异进行有效地呈现，相比于进行能量曲线计算能更为快速地判断更具耐腐蚀性的晶面结构。
本发明授权一种针对铜族金属耐腐蚀性晶面的快速筛选方法在权利要求书中公布了：1.一种针对铜族金属耐腐蚀性晶面的快速筛选方法，其特征在于，包括如下步骤： S1、基于JDFTx计算软件，采用层状平板模型模拟建立电化学界面，对铜族金属模型进行初始计算，得到结构计算的输出结果；在输出文件中得到对应k点网格划分后空间坐标轴x,y,z中各位置的电子密度分布文件； S2、基于初始的电子密度分布分布文件，利用计算脚本建立平均电子密度沿Z轴的分布曲线图； S3、基于S2中所得的电子密度沿Z轴的分布曲线，对模型原子层结构划分出原子层内与层间区域； S4、对电子密度在层间与层内区域的变化进行分析，通过层间电子数占比判断铜族金属电极结构的耐腐蚀溶解性能。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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