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龙图腾网恭喜西安空间无线电技术研究所申请的专利一种基于扫描电子显微镜平台的二次电子产额测试方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115639236B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211288248.3，技术领域涉及：G01N23/2251；该发明授权一种基于扫描电子显微镜平台的二次电子产额测试方法是由张娜;苗光辉;胡斐;崔万照;王瑞;陈泽煜设计研发完成，并于2022-10-20向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于扫描电子显微镜平台的二次电子产额测试方法在说明书摘要公布了：一种基于扫描电子显微镜平台的二次电子产额测试方法，借助已有扫描电子显微镜及法拉第杯，将原来用于聚焦扫描的电子束进行过聚焦后再散斑，得到所需二次电子产额的电子束照射面积，在该照射面积下测试待测样品上的电流，同时在保证扫描电子枪处于相同聚焦参数下通过法拉第杯测试入射电子电流，通过两次测试电流的简单计算即可得到该电子束能量下的二次电子产额。该方法实现了二次电子产额的简便、快捷、可靠的测试，其不仅对于二次电子发射领域的相关研究如空间微波部件微放电效应、电子倍增管性能优化、介质窗微波击穿等具有重要意义，也是对现有测试方法的有效补充。

本发明授权一种基于扫描电子显微镜平台的二次电子产额测试方法在权利要求书中公布了：1.一种基于扫描电子显微镜平台的二次电子产额测试方法，其特征在于，包括： 1在扫描电子显微镜SEM平台中同时放入校验样品、待测样品、法拉第杯； 2获取需要测试的二次电子产额SEYi及对应入射能量点Epi以及电子照射的测试面积IDi，i为测试次数； 3采用扫描电子显微镜SEM在校验样品上以工作电压EHTi得到清晰的图像，并记录在EHTi下得到清晰图像时的工作距离WDi； 4在校验样品上测试扫描电子显微镜在EHTi下样品不同位置处的束斑尺寸； 5根据待测样品所需的测试面积IDi推算出待测样品相对于WDi所需调整的相对距离ΔZIdi； 6采用扫描电子显微镜SEM在待测样品上用上述的EHTi和WDi得到清晰的图像，然后仅移动样品台，将样品位置改变ΔZIdi，此时让扫描电子显微镜SEM中的电子束处于非扫描状态，并记录样品台上的电流Isi； 7采用扫描电子显微镜SEM在法拉第杯上用上述的EHTi和WDi得到清晰的图像，然后使电子束处于非扫描状态并聚焦于法拉第杯中心位置处，此时记录样品台上电流Ipi； 8计算入射能量点Epi下的二次电子产额SEYi＝1-IsiIpi； 9重复步骤3-8，得到一组所需入射能量电子Epi下的二次电子产额SEYi； 所述校验样品为电子束长期照射后易于在表面形成区别于未照射表面的痕迹；所述待测样品为期望获得二次电子产额的样品；所述法拉第杯为适配于扫描电子显微镜平台的能够全部收集电子枪发射电子束的装置； 所述测试面积IDi为入射电子照射到表面并发射二次电子的面积，亦即SEM平台内电子枪发射的电子照射在样品上的面积，该测试面积IDi不大于样品在SEM以最远距离、最小放大倍数下电子枪的束斑面积； 所述工作电压EHTi等于二次电子产额对应的入射能量Epi； 所述在校验样品上测试扫描电子显微镜在EHTi下样品不同位置处的束斑尺寸，包括：保持电子束不动，将加载校验样品的样品台向上或向下移动ΔZik，k＝1,2，……，k为样品台移动的次数；让SEM中的电子束处于非扫描状态并保持一段时间，并确保校验样品在电子束的照射下留下痕迹，再次调整样品台至WDi位置得到清晰的图像，并通过SEM标尺测量出校验样品上所留痕迹的大小，即SEM在EHTi下样品处于WDi+ΔZik时电子束斑直径为EDik，通过改变ΔZik位置并重复上述操作，得到一组ΔZik与EDik对应的数值； 所述根据待测样品所需的测试面积IDi推算出样品相对于WDi所需调整的相对距离ΔZIdi，包括：根据测量的一组数据EDik，ΔZik进行数据拟合，得到ΔZ＝fED的拟合函数，该拟合函数ΔZik＝满足fEDik，计算当IDi＝ED时对应的ΔZIdi； 对于表面光滑、表面状态一致的样品或者不同EHTi下要求的电子束照射的测试面积IDi相差无几时，在所述步骤2中找出最小的EHTi，即minEHTi对应的SEYi；在所述步骤3中在minEHTi下得到清晰的图像，并记录minEHTi对应的WDminEHTi；按照所述步骤4和5推算出待测样品相对于WDminEHTi所需调整的相对距离ΔZIdminEHTi；对于其他不同的EHTi均选用相同的WDminEHTi和ΔZIdminEHTi，则对步骤3-5不重复，只重复步骤6-8； 对于同一扫描电子显微镜SEM平台，对于步骤3和4已获得的EHTi和WDi对应的不同位置处的束斑尺寸以及步骤7中法拉第杯在EHTi和WDi条件下的电流Ipi，根据扫描电子显微镜SEM平台的稳定性程度，对于其他待测样品在SEM平台的稳定范围内不需要重复测试步骤3、4、7。

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