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龙图腾网获悉大连奥首科技有限公司申请的专利一种微藻基抛光磨料及含有其的抛光液、其制备方法及用途获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116656320B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310567499.3，技术领域涉及：C09K3/14；该发明授权一种微藻基抛光磨料及含有其的抛光液、其制备方法及用途是由侯军;李传强;单晓倩设计研发完成，并于2023-05-19向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种微藻基抛光磨料及含有其的抛光液、其制备方法及用途在说明书摘要公布了：本发明提供一种微藻基抛光磨料及含有其的抛光液、其制备方法及用途。所述微藻基抛光磨料的制备方法包括以下步骤：将微藻加入到磷酸盐缓冲溶液中混合得到微藻溶液；将磨料加入到微藻溶液中搅拌得到微藻基抛光磨料。本发明还公开了一种含有微藻基抛光磨料的抛光液，包括重量配比如下的各组分：微藻基抛光磨料1‑30份；氧化剂1‑20份；pH调节剂1‑20份；催化剂0.1‑5份；分散剂0.1‑10份；去离子水20‑70份。本发明制备的微藻基抛光磨料具有特殊的核壳结构，采用包含有微藻基抛光磨料的抛光液对碳化硅进行抛光，具有高移除率和低划伤的优点，该抛光液对氮化镓及蓝宝石等半导体材料同样适用。

本发明授权一种微藻基抛光磨料及含有其的抛光液、其制备方法及用途在权利要求书中公布了：1.一种含有微藻基抛光磨料的抛光液，其特征在于，包括重量配比如下的各组分： 微藻基抛光磨料1-30份； 氧化剂1-20份； pH调节剂1-20份； 催化剂0.1-5份； 分散剂0.1-10份； 去离子水20-70份； 所述氧化剂为双氧水、高碘酸钠、高锰酸钾、过硫酸钾和溴酸钾中的一种或多种； 所述pH调节剂为酸性调节剂； 所述催化剂为二氧化钛、氧化锌、氧化锡和二氧化锆中的一种或多种； 所述分散剂为聚乙二醇400、甘油、聚丙烯酸、聚丙烯酸钠、十二烷基苯磺酸钠和十二烷基磺酸钠中的一种或多种； 所述微藻基抛光磨料由以下方法制备而成： 将微藻接种于培养基中，保持环境温度25-30℃，光照强度35-40μmolm2s；通过离心机将上述微藻和培养基的混合物进行分离，提取微藻； 将微藻加入到磷酸盐缓冲溶液中混合得到微藻溶液；将磨料加入到微藻溶液中搅拌得到微藻基抛光磨料； 所述微藻为蓝藻、小球藻、螺旋藻和红球藻的一种或多种； 所述磨料为二氧化硅、氧化铈、金刚石、碳化硅、氮化硼、氧化锆和氧化铝中的一种或多种。

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