国科大杭州高等研究院杨陈楹获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网获悉国科大杭州高等研究院申请的专利一种彩色或黑色电极及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116994791B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310772304.9，技术领域涉及：H01B1/00；该发明授权一种彩色或黑色电极及其制备方法是由杨陈楹;高海淇;林杰;邵煜;沈伟东;梁涛;温俊仁设计研发完成，并于2023-06-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种彩色或黑色电极及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种具有高显色性和低电阻特性的彩色或黑色电极及其制备方法。其中彩色电极由金属反射层、介质调制层、金属吸收层以及减反层组成，黑色电极由金属反射层、介质调制层‑金属吸收层叠层以及减反层组成；上述各层均具有低电阻率。本发明电极能够在可见光波段实现高饱和度的彩色显示或低反射的全黑色显示，并具有非常低的电阻。因此，本发明彩色或黑色电极可广泛应用于光伏、显示器等领域。
本发明授权一种彩色或黑色电极及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种彩色或黑色电极，其特征在于，该电极包括基底，所述基底上依次设有金属反射层、多组介质调制层-金属吸收层叠层以及减反层，各层的方阻低于等于20欧sq；所述叠层为多组时，底层为介质调制层，顶层为金属吸收层； 所述金属反射层材料为银、铝；所述金属吸收层材料为铬；所述介质调制层材料为氧化铟锡；所述减反层材料为氧化铟锡； 所述反射层厚度为100-500nm；所述金属吸收层厚度为4-30nm；所述介质调制层厚度为40-500nm；所述减反层厚度为50-300nm 上述采用彩色或黑色电极采用由如下优化方法优化得到： 优化时，采用如下评价函数对得到的膜系参数进行评价： 其中N为波长点数量，j为膜层数量，d为膜层厚度，α，β和γ为光谱，电阻以及正则化项对于评价函数的权重，Rtarget为我们需要设计的光谱目标，不同颜色对应不同的Rtarget，n为薄膜复折射率，与薄膜材料以及入射波长有关，R代表实际计算出来的光谱数据与厚度d以及折射率n有关，ρall表示整个电极的电阻，与膜层厚度以及每层的电阻ρ有关，ρ1，ρ2等代表不同膜层的电阻。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人国科大杭州高等研究院，其通讯地址为：310024 浙江省杭州市西湖区象山支弄1号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号