江苏籽硕科技有限公司陆桥宏获国家专利权
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龙图腾网获悉江苏籽硕科技有限公司申请的专利一种等离子刻蚀机刻蚀腔及等离子体刻蚀机获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN118675973B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-17发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202410903839.X,技术领域涉及:H01J37/32;该发明授权一种等离子刻蚀机刻蚀腔及等离子体刻蚀机是由陆桥宏;何东旺;曹俊;薛燕设计研发完成,并于2024-07-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种等离子刻蚀机刻蚀腔及等离子体刻蚀机在说明书摘要公布了:本发明公布了一种等离子刻蚀机刻蚀腔及等离子体刻蚀机,涉及半导体刻蚀技术领域。包括有工作台,所述工作台的上侧固接有支撑座,所述支撑座设置有第一滑动件,所述第一滑动件的内侧设置有刻蚀腔,所述刻蚀腔由竖向腔体和引导腔组成,所述引导腔为圆台形,且所述引导腔的直径由上至下逐渐减小。本发明通过改变刻蚀腔结构特征的方式解决硅片与等离子体接触时产生的热气向上移动后会影响到等离子体冲击速度的问题,通过刻蚀腔内侧向内凹陷且呈倾斜状态的作用下,对热气进行阻拦,并对硅片的上侧进行遮挡,以此减少热气向上流动的量,避免热气向上流动后影响到等离子体的冲击速度,导致硅片的上侧无法被均匀冲击。
本发明授权一种等离子刻蚀机刻蚀腔及等离子体刻蚀机在权利要求书中公布了:1.一种等离子刻蚀机,其特征在于:包括有等离子刻蚀腔,等离子刻蚀腔包括有工作台(10),所述工作台(10)的上侧固接有支撑座(11),所述支撑座(11)设置有第一滑动件(12),所述第一滑动件(12)的内侧设置有刻蚀腔(13),所述刻蚀腔(13)由竖向腔体和引导腔(1301)组成,所述引导腔(1301)为圆台形,且所述引导腔(1301)的直径由上至下逐渐减小; 所述支撑座(11)的上方可拆卸安装有硅片(1),所述硅片(1)位于所述引导腔(1301)的下方,所述引导腔(1301)用于遮挡所述硅片(1)被刻蚀出的热气; 该等离子刻蚀机还包括有L形架(20),所述L形架(20)螺栓连接于所述工作台(10)的上侧,所述支撑座(11)与所述第一滑动件(12)滑动连接,所述L形架(20)远离所述工作台(10)的一侧螺栓连接第一电动推杆(21),所述第一电动推杆(21)的伸缩端与所述第一滑动件(12)的上侧螺栓连接,所述第一滑动件(12)内侧靠近圆心的部分固接有第一出气口(22),所述第一滑动件(12)内侧靠近外周的部分固接有环形阵列分布的第二出气口(23),所述第一出气口(22)和环形阵列分布的所述第二出气口(23)均位于所述刻蚀腔(13)内,所述第一滑动件(12)内的下部转动连接有电动转环(24),所述电动转环(24)位于所述支撑座(11)的上方,所述电动转环(24)内设置有输气腔(25),所述第一滑动件(12)的一侧固接有与所述输气腔(25)连通的抽气管,所述电动转环(24)的上侧固接有环形阵列分布的V形架(26),环形阵列分布的所述V形架(26)的上侧均与所述引导腔(1301)的下侧接触配合,所述V形架(26)固接有第一导气管(27),所述第一导气管(27)的下侧贯穿所述电动转环(24)和相邻的所述V形架(26)并与所述输气腔(25)连通,所述V形架(26)朝向所述电动转环(24)转动方向的一侧固接有V形分布的导料管,V形分布的导料管均与相邻的所述第一导气管(27)连通; 所述V形架(26)朝向所述电动转环(24)转动方向的一侧固接有V形板(28),所述V形板(28)用于对相邻所述V形架(26)刮除的废料进行收集。
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