上海积塔半导体有限公司杨晓亮获国家专利权
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龙图腾网获悉上海积塔半导体有限公司申请的专利工艺腔室及化学气相沉积设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN222990213U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-17发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422232080.5，技术领域涉及：C23C16/52；该实用新型工艺腔室及化学气相沉积设备是由杨晓亮;公茂江;杜罡设计研发完成，并于2024-09-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本工艺腔室及化学气相沉积设备在说明书摘要公布了：本申请提供了一种工艺腔室及化学气相沉积设备。该工艺腔室包括：腔室本体；加热器晶圆载盘，设置于腔室本体内，加热器晶圆载盘的工作面定义有预设加工区域；预设加工区域用于在加工过程中放置目标晶圆；电容式传感器，包括至少一对电容极板；电容极板设置于加热器晶圆载盘的工作面上，且设置于预设加工区域的外周；报警器，与电容极板相连接，用于在电容极板产生电容变化时进行报警。该工艺腔室可以实现对目标晶圆在工艺腔室中的位置的实时监测，从而有效避免目标晶圆因位置偏差导致的镀膜不均匀、膜厚异常、刮伤或碎片等问题。
本实用新型工艺腔室及化学气相沉积设备在权利要求书中公布了：1.一种工艺腔室，其特征在于，包括： 腔室本体； 加热器晶圆载盘，设置于所述腔室本体内，所述加热器晶圆载盘的工作面定义有预设加工区域；所述预设加工区域用于在加工过程中放置目标晶圆； 电容式传感器，包括至少一对电容极板；所述电容极板设置于所述加热器晶圆载盘的所述工作面上，且设置于所述预设加工区域的外周； 报警器，与所述电容极板相连接，用于在所述电容极板产生电容变化时进行报警。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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