达高工业技术研究院(广州)有限公司王欢获国家专利权
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龙图腾网获悉达高工业技术研究院(广州)有限公司申请的专利一种方酸锂纳米片的制备方法、由其制备得到的方酸锂纳米片及应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119350147B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411478802.3，技术领域涉及：C07C45/61；该发明授权一种方酸锂纳米片的制备方法、由其制备得到的方酸锂纳米片及应用是由王欢;张念椿;朱炯熙;梁锦坤;谭振宗;萧卫泓;孙易桀;吴航;冯巧钰;饶金旺设计研发完成，并于2024-10-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种方酸锂纳米片的制备方法、由其制备得到的方酸锂纳米片及应用在说明书摘要公布了：本发明提供了一种方酸锂纳米片的制备方法、由其制备得到的方酸锂纳米片及应用。所述方酸锂纳米片的制备方法包括：将方酸、锂源和模板调节剂在醇中进行混合后，再经溶剂热反应，得到方酸锂纳米片。本发明以方酸、锂源为原料，以醇为介质，在模板调节剂的辅助下通过溶剂热法成功合成超薄二维方酸锂纳米片。本发明所述制备方法简单、使用性强、原料廉价易得、节能环保，有利于大规模的工业生产，具备显著地经济和社会效益。制备的超薄二维方酸锂纳米片厚度薄，具有大的比表面积，脱锂电位低，并具有高效的补锂性能。
本发明授权一种方酸锂纳米片的制备方法、由其制备得到的方酸锂纳米片及应用在权利要求书中公布了：1.一种方酸锂纳米片的制备方法，其特征在于，所述方酸锂纳米片的制备方法包括： 将方酸、锂源和模板调节剂在醇中进行混合后，再经溶剂热反应，得到方酸锂纳米片； 所述方酸和锂源中的锂的摩尔比为1:2.0～2.4；所述模板调节剂的添加量占所述方酸和锂源的总质量的0.1～5.0％； 所述锂源包括氧化锂、氢氧化锂、碳酸锂、碳酸氢锂或乙酸锂中的任意一种或至少两种的组合； 所述模板调节剂包括聚环氧乙烷-聚环氧丙烷-聚环氧乙烷三嵌段共聚物、十六烷基三甲基溴化铵、十六烷基三甲基氯化铵、十二烷基磺酸钠、油酸或聚乙二醇中的任意一种或至少两种的组合； 所述醇选自乙醇、乙二醇、甘油、季戊四醇、三羟甲基乙烷、木糖醇或山梨醇中的任意一种或至少两种的组合。
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